7N電子級氨氣

所屬分類：氨氣

發(fā)布日期：2025-01-23 14:37:07

來源：洛陽宏昌工貿(mào)有限公司

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詳情

7N電子級氨氣的用途

一、半導體制造

1. 化學氣相沉積（CVD）：電子級氨氣作為氮源，用于沉積氮化物薄膜，如氮化硅（Si?N?）、氮化鋁（AlN）等，這些薄膜廣泛用于絕緣層、保護層和導電材料。
2. 清洗與蝕刻：氨氣可用于清洗晶圓表面的有機物和金屬雜質(zhì)，并在蝕刻工藝中與其他氣體結(jié)合，去除表面氧化層。
3. 氮摻雜：氨氣作為氮源，用于離子注入和摻雜工藝，改變半導體材料的電學性能。

二、光電子領域

電子級氨氣是光電子制造的關鍵材料，用于半導體照明、液晶顯示面板和太陽能電池的生產(chǎn)。它在MOCVD（金屬有機化學氣相沉積）工藝中用于制備氮化鎵等材料。在OLED和MiniLED等新型顯示技術中，電子級氨氣用于材料生長和表面處理，確保產(chǎn)品的光學性能。

三、新能源領域

在鋰離子電池和燃料電池的制造中，電子級氨氣用于電極材料的制備和表面處理，提高電池性能和安全性。隨著氫能產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，電子級氨氣作為氫氣的重要來源，展現(xiàn)出巨大的應用潛力。

四、其他應用

電子級氨氣還可用于精細化工，如催化劑生產(chǎn)、醫(yī)藥中間體合成等。

7N電子級氨氣產(chǎn)品技術指標
項目/組份		含量
氨（NH₃）純度（體積分數(shù)）/10^-2	≥	99.99999
氫（H₂）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
氧+氬（O₂+Ar）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
氮（N₂）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
一氧化碳（CO）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
二氧化碳（CO₂）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
烴（C_1~C₃）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
水分（H₂O）含量（體積分數(shù)）/10^-6	＜	0.01
總雜質(zhì)含量（體積分數(shù)）/10^-6	≤	0.1

7N電子級氨氣重金屬雜質(zhì)技術指標
重金屬含量/10^-6（質(zhì)量分數(shù)）		氣相	液相
銻（Sb）	＜	0.005	0.005
鎘（Cd）	＜	0.001	0.001
鈣（Ca）	＜	0.01	0.05
鉻（Cr）	＜	0.001	0.005
鈷（Co）	＜	0.001	0.001
銅（Cu）	＜	0.005	0.01
鎵（Ga）	＜	0.001	0.01
碲（Te）	＜	0.005	0.01
鉛（Pb）	＜	0.001	0.001
鋰（Li）	＜	0.001	0.001
鎂(Mg)	＜	0.001	0.005
錳（Mn）	＜	0.001	0.005
鉬（Mo）	＜	0.001	0.001
鎳（Ni）	＜	0.001	0.01
鉀（K）	＜	0.001	0.001
硅（Si）	＜	0.01	0.05
鈉（Na）	＜	0.005	0.01
錫（Sn）	＜	0.001	0.005
鋅（Zn）	＜	0.005	0.01
砷（As）	＜	0.001	0.005
鍺（Ge）	＜	0.001	0.005
鐵（Fe）	＜	0.005	0.01
磷（P）	＜	0.005	0.01

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5N5電子級氯化氫

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